第407章 出题与解题
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  “好的，林总。”他重新戴上眼镜，目光扫过在场的每一个人。
  “首先，我要承认，佳能的宣传并非谎言。
  在理想条件下，n-il确实能做到他们所说的一切。
  我甚至亲眼见过，在他们的实验室里，用nil技术压印出的单层晶圆样品，其精度和良率都达到了惊人的水准。
  但这就像是概念跑车，在专业赛道上能跑出破纪录的速度，可一旦把它开到城市拥堵的街道上，它可能连一辆普通的家用车都不如。
  它的缺陷，不是出在上限，而是出在下限，出在从实验室走向大规模量产的每一个不起眼的环节里。
  我把它总结为以下几点，首先是我认为最要命的，我称之为缺陷瀑布。”
  这个词一出口，就引起了一阵小小的骚动。
  中芯国际的代表梁孟松显然对缺陷这个词很敏感，他马上皱起了眉头。
  陈磊伸出一根手指，语气变得无比严肃：“传统的光刻，无论是duv还是euv，都是非接触式的。
  这点在座各位我相信都非常清楚。
  光穿过掩膜版，投射在晶圆上。
  即使掩膜版上有一个尘埃，经过光学系统的缩小，对单个芯片的影响也相对可控。
  但nil是接触式的，是物理压印！
  这意味着，只要有一个纳米级的颗粒掉在模板上，或者在压印过程中产生，会发生什么？”